有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物-k66凯时

申请/专利权人：信越化学工业株式会社

申请日：2020-04-14

公开（公告）日：2024-03-08

公开（公告）号：cn111825596b

主分类号：c07d209/48

分类号：c07d209/48;c07d403/14;c07d207/404;c07c233/75;c07c39/17;c08f22/40;c08l101/02;g03f7/11;g03f7/16;g03f7/26;g03f7/36;h01l21/027

优先权：["20190416 jp 2019-077767"]

专利状态码：有效-授权

法律状态：2024.03.08#授权;2020.11.13#实质审查的生效;2020.10.27#公开

摘要：本发明涉及有机膜形成用材料、基板、有机膜的形成方法、图案形成方法、以及有机膜形成用化合物。本发明课题的目的为提供一种含有酰亚胺基的化合物，其不仅在空气中，在惰性气体中的成膜条件亦会硬化，不产生副产物，能够形成耐热性、或形成于基板的图案的填埋、平坦化特性优良且对基板的密接性良好的有机下层膜。该课题的解决方法为一种有机膜形成用材料，其特征为含有：a通式1a或1b表示的有机膜形成用化合物、及b有机溶剂。

主权项：1.一种有机膜形成用材料，其特征为含有：a下述通式1d或1e表示的有机膜形成用化合物，及b有机溶剂； 通式1d及1e中的r1为下式1c表示的基团中的任一者，也可将2种以上的r1组合使用；r2为氢原子或碳数1～20的直链状或分支状的饱和或不饱和的烃基，构成r2的亚甲基也可被取代为氧原子或羰基； 通式1d及1e中的w2为以下通式1g-2或以下通式1g-3表示的基团，w2＝--o-w3-o--1g-2其中w3表示以下通式1h-2表示的基团中的任一者， 其中w5表示以下通式1h-3表示的基团，

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